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節能又提高生產力,ASML 分享 High-NA EUV 技術
AI 驅動半導體需求,全球晶片微影技術領導廠商艾司摩爾 ASML 於 SEMICON Taiwan 分享新一代高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)微影技術。公司表示,透過該技術將協助晶片製造商簡化製造工序、提高產能,並降低每片晶圓生產的能耗,目標 2025 年再減少 30%~35% 能耗。 ...
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