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台積電年底前獲首套 High-NA EUV，生產領先 2 奈米兩代製程
日經亞洲的報導，全球最大半導體製造商台積電 (TSMC) 年底前會收到 ASML 最先進微影曝光機。高數值孔徑極紫外 (High NA EUV) 微影曝光機每台售價超過 3.5 億美元，能使半導體製造商製造電晶體線寬更小的晶片。 台積電考慮用 High NA EUV 微影曝光機生產 A10 製程晶片...
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